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铼溅射靶材
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 一、产品概述

名称:铼溅射靶材

简介:纯度Re≥99.99%~99.999%,形状、尺寸、密度接受各种定制产品。

用途:铼靶材用于磁控溅射镀膜,磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相(PVD)镀膜方式,相比于蒸发镀膜方式,其在很多方面有相当明显的优势,作为一项已经发展得较为成熟的技术,磁控溅射已经被应用于许多领域,比如在半导体集成电路、太阳能光伏、记录介质、平面显示以及工件表面涂层等方面都得到了广泛应用。


 

  • 1: 产品名称:铼溅射靶材
  • 2: 规格:接受各种定制

 

电话:0519-82663391
邮箱:sales@wowmaterials.com

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