85 说明氮化硅SiN膜上光刻后溅射钛Ti或金Au后出现光刻胶PR鼓泡的情况

SiN膜上光刻后做溅射工艺,溅射Ti或Au后出现光刻胶PR鼓泡的情况,朋友门有遇到这种问题的吗?          
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溅射温度高,可以降低沉积温度;轰击能量高,试着降低沉积功率

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和尚洗头用飘柔

溅射温度高,可以降低沉积温度;轰击能量高,试着降低沉积功率

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  • AX殇落 提出于 2021-06-29 14:19:58