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基质辅助激光解吸-飞行时间质谱仪
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一、产品概述

名称:基质辅助激光解吸-飞行时间质谱仪

产品原理:

当用一定强度的激光照射样品与基质形成的共结晶薄膜,基质从激光中吸收能量,基质-样品之间发生电荷转移使得样品分子电离,电离的样品在电场作用下加速飞过飞行管道,根据到达检测器的飞行时间不同而被检测,即测定离子的质量电荷之比与离子的飞行时间成正比来检测离子。

型号:JY-82B Kruss DSA

 

二、产品应用

应用领域

适用于塑料薄膜、橡胶、细金属丝、纤维和细线、铝箔、铜箔、生物材料、高分子材料、薄金属、高强度金属丝、部件、紧固件、复合材料等。 

 
测试项目:
1. 依据测试结果分为:低分辨和高分辨;
2. 测试模式分为:线性模式和反射模式;
3. 常用的测试基质为:CHCA、DHB、SA。

 样品要求:
1. 样品状态:薄膜,样品平面尺寸一般要求5*5mm,最大不超过8*8mm,厚度最好不要超过1mm,样品要求具有一定导电性;
2. 粉体样品:需要制备为薄膜,具体制备方法及要求如下:先把粉末样品分散在水或乙醇里(浓度尽量低点),滴在硅片上烘干,可以多循环几次,一定要保证膜表面尽量平整、均匀、连续、整洁,硅片尺寸5*5mm-5*8mm,厚度几百μm,涂完膜干燥后膜层以完全覆盖住硅片即可(膜层厚度10-50nm即可),膜层的电阻最好小于10兆欧,最大不能超过30兆欧。
 
Ⅰ. 测试结果为什么跟文献或者预期有偏差?
第一,由于UPS测量中光激发电子的动能在0-20eV范围,在此能量区间的电子逃逸深度较小,且随能量急剧变化,材料表面的导电性、污染程度和粗糙度等因素会对测量结果产生较大影响,轻则导致谱图的峰位移动和峰形变化,重则导致无信号。UPS适用于分析表面均匀洁净的导体以及导电性较好的半导体薄膜材料。对于合成的粉末样品,影响因素较多,UPS测试存在一定风险 ; 第

Ⅱ. UPS测试过程中,紫外光的扫描范围仅为样品中的某个微小区域,如果样品制备不均匀,或者测试区域恰好条件不佳,也可能会影响测试结果;Ⅱ. 测试人员给出的数据分析结果准确吗,是否可以调整?
测试人员给出的只是分析结果仅供参考,因为测试人员不知道每个样品具体是什么材料,只能根据自己的习惯和经验大致作图分析,所以我们一般还需要根据对样品性质的了解,对数据分析结果微调甚至大的调整。
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