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铜靶
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 一、产品概述

名称:铜靶

简介:溅射靶中的杂质会降低材料的导电率,在半导体膜层生产中杂质元素是影响良率的主要因素。以钛、磷、钙、铁、铬和硒等形式存在的杂质尤为关键。

二、应用范围

用于显示屏及触摸屏配线及其保护膜,太阳能光吸收层、半导体配线等行业。

  • 1: 产品名称:铜靶
  • 2: 纯度:99.9%~99.9999%
  • 3: 氧含量最低可以<1ppm
  • 4: 平均粒径:<50um

 

电话:0519-82663391
邮箱:sales@wowmaterials.com

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