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一、产品概述 名称:铜靶 简介:溅射靶中的杂质会降低材料的导电率,在半导体膜层生产中杂质元素是影响良率的主要因素。以钛、磷、钙、铁、铬和硒等形式存在的杂质尤为关键。 二、应用范围 用于显示屏及触摸屏配线及其保护膜,太阳能光吸收层、半导体配线等行业。
一、产品概述
名称:铜靶
简介:溅射靶中的杂质会降低材料的导电率,在半导体膜层生产中杂质元素是影响良率的主要因素。以钛、磷、钙、铁、铬和硒等形式存在的杂质尤为关键。
二、应用范围
用于显示屏及触摸屏配线及其保护膜,太阳能光吸收层、半导体配线等行业。
1: 产品名称:铜靶 2: 纯度:99.9%~99.9999% 3: 氧含量最低可以<1ppm 4: 平均粒径:<50um
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