1. 样品状态：薄膜，样品平面尺寸一般要求 5*5mm，最大不超过 8*8 mm，厚度最好不要超过 1mm，样品要求具有一定导电性；

2. 粉体样品：需要制备为薄膜，具体制备方法及要求如下：先把粉末样品分散在水或乙醇里（浓度尽量低点），滴在硅片上烘干，可以循环几次，一定要保证膜表面尽量平整、均匀、连续、整洁，硅片尺寸 5*5mm-5*8mm，厚度几百 μm，涂完膜干燥后膜层以完全覆盖住硅片即可（膜层厚度 10-50nm 即可），膜层的电阻最好小于 10 兆欧，最大不能超过 30 兆欧。